Intel Siap Menjual Processor 32nm Tahun 2009

Intel telah siap memproduksi teknologi generasi masa depan menggunakan transitor yang lebih hemat energi, lebih padat dan dengan kinerja lebih tinggi pada kuartal keempat 2009.
Menurut Intel, 32 nm merupakan teknologi high-k dan metal gate generasi kedua, 193 nm immersion lithography untuk membuat pola pada lapisan untuk jalur kritis dan penungkatan tehnik kerapatan transistor. Fitur ini meningkatkan kinerja dan efisiensi energi dari prosesor Intel. Proses manufaktur Intel memiliki kinerja transisteor terbaik dan kerapatan transistor tertinggi dari teknologi 32 nm kain yang ada di industri ini.